阿斯麥CEO戳北京痛點：造不出晶元光刻機

（看中國記者文龍綜合報導）北京當局一直希望擁有製造晶元必備的高端光刻機，但光刻機生產巨頭阿斯麥（ASML）方面道破真機。中國年度晶元進口額4000億美元，舉國之力40年發展半導體技術的計畫也已失敗。

據荷蘭《人民報》和《電訊報》1月20日報導，全球晶元短缺已經持續了一年多，因此，對光刻機製造商阿斯麥（ASML）的設備需求比以往任何時候都大，直接其影響業績。阿斯麥發布了其業績報告，阿斯麥2021年總營收為186億歐元，同比增長33%；淨利潤為59億歐元，同比增長66%；毛利率為53%，比上年同期提高4個百分點。

阿斯麥的2021年營收中有63億歐元來自42個EUV系統（極紫外光刻機）訂單，比上年多11個。英特爾（Intel）公司從阿斯麥訂購了價值71億歐元的設備，其中26億歐元用於購買EUV。

該公司計畫在今年年底前，將員工人數從目前的3.15萬人增加到3.5萬人。為提高對客戶的支持，將選擇縮短週期以運送更多設備，主要通過快速發貨流程跳過工廠的一些測試，並在客戶現場進行最終測試和正式驗收。

阿斯麥預計2022年的營業額將增長20%，屆時營業額將超過220億歐元。

阿斯麥CEO溫彼得（Peter Wennink）對《路透社》表示，中國不太可能獨立製造出頂尖的光刻機，因為阿斯麥依賴於不懈的創新，以及整合只有從非中國供應商處才能獲得的零部件，但「他們（中國）肯定會嘗試的」。

光刻是晶元製造的核心環節，也是研發難度最大的半導體設備。目前，阿斯麥基本壟斷著最頂尖的光刻機市場。

溫彼得同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。

據業內人士介紹，光刻機研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大的研發資金投入。目前，中國技術領先的光刻機廠家是上海微電子，可以生產90/65nm（納米）製造工藝的光刻機。

過去幾年，阿斯麥一直在研發高數值孔徑（0.55 NA）EUV光刻機，具有更高的解析度，可以使晶元面積縮小1.7倍，晶體管密度增加2.9倍。與目前的0.33 NA EUV光刻機相比，0.55 NA光刻機可以顯著提高良率、降低成本和縮短生產週期。0.55 NA光刻機的每臺售價約為3億美元，比0.33 NA光刻機售價高出一倍。

目前，台積電等生產7nm-5nm製程的晶元採用的都是0.33 NA EUV光刻機，而第一代0.55 NA光刻機預計2023年上市。

英特爾早在2018年就率先向阿斯麥下單第一代0.55 NA EUV光刻機，該公司也有望成為首個高數值孔徑EUV光刻機的使用者，並將其用於3nm及以下製程。

從上述數據可以看出，上海微電子的技術和國際水平差距十分巨大。

中國自2018年以來，每年僅晶元進口這一項所花費的金額就超過3000億美元，成為中國進口金額最大的單一產品。2018年花費3121億美元，2019年花費3055億美元，2020年花費高達3500億美元。

2021年中國晶元進口金額再創新高，中國工信部的報告預計進口金額將超過4000億美元。主要有二大原因，包括全球晶元荒，導致晶元價格上漲；以及中美貿易戰的延續，美國出口管制更加嚴格，促使許多中國廠商開始大量囤積手機、汽車等各種晶元。

「天鈞政經」團隊分析指出，從日常生活的手機、家用電器，到各行各業的機械、汽車，再到高超音速洲際彈道導彈、衛星、戰鬥機等，無一不依賴這小小的晶元。美國的制裁導致華為等北京當局重點扶持的公司和軍工行業均遭重創，其短板正是沒有高端晶元的技術。

「天鈞政經」強調，中國晶元是因為才開始發展不久而導致處處落後其它國家？其實不然，1982年10月4日，中國國務院成立了國務院電子計算機和大規模集成電路領導小組。之後該小組雖然歷經改名與合併，但是其職能一直存在。現在的名字是中央網路安全和信息化委員會，主任是習近平，副主任是李克強、王滬寧。

40年來，儘管北京當局對晶元很重視，但國產晶元和發達國家比較，仍然處於相對落後的狀態。中國所需晶元80%左右還得依賴進口，尤其是高端晶元，在中國更是十分稀缺。在全球晶元產業鏈上，中國處在中下游的地位。上游的高端技術、關鍵設備和相關專利中國都不曾擁有。

並且，以千億級投資的武漢弘芯為代表的等多個晶元項目「爛尾」，更令人唏噓不已。

責任編輯:辛荷 来源:看中國